末日這種事當然是要上報啦 第34章 不搶就換

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陳進一想到張雲似乎並非技術工程師的身份，還是耐心的解釋了：

“這台ssa600/20采用的是193n氟化氬深紫外光源。

它的曝光波長達到了28奈米，采用沉浸式光刻技術。

配合我們自研的雙工作台係統，每小時能完成120片晶圓的曝光作業，套刻精度控製在3奈米以內。

它的光源係統用了我們自己研發的準分子鐳射器，穩定性比進口設備提升了15。

而且重點零部件國產化率超過80。

當然，和國際頂尖的5奈米光刻機比，還有差距。

但這已經是我們目前能拿出的最好成果了。

目前，我們還在集中攻克7奈米製程的量產問題。”

陳進一的話有些無奈，龍國的半導體行業，尤其是光刻機技術還是太落後了些。

誰都知道半導體領域想要突破，核心中的核心就是光刻機。

如今龍國大部分高階晶片，都需要依賴進口生產。

而且存在技術專利的問題，每年都要花上一大筆授權費用。

眼前這台機子已經是好幾年前的產物了，光是7奈米級彆的生產就已經卡了他們許多年。

張雲聽完後，緊接著問道：

“它在七奈米以下的製程上有什麼問題嗎？”

陳進一冇想到他會直接問出這個問題，愣了一下纔回答：

“問題還不少，主要是在多重曝光的疊加誤差上。

duv的波長是193n，從根本上限製了解析度的理論上限。

目前28奈米波長要實現7奈米製程，需要進行4次曝光。

但每次曝光的定位誤差會累積，目前最多隻能穩定在9奈米左右，離量產要求的7奈米還有距離。”

嚴正行聽到這裡，歎了口氣，心裡搖了搖頭。

這就是他當初為什麼離開龍國的原因了。

和世界頂尖的光刻機相差數代的技術，要怎麼靠努力去追趕？

但靠張雲可以呀！

張雲等人此次前來的目的，自然是為瞭解決晶片生產問題，使其能夠在戰備狀態下提供應有的支援。

不過張雲還冇有天真到，認為能花幾個月時間就造出一台超越euv光刻機的東西。

雖然張雲的腦中確實有全套光刻機的生產技術。

但還是那個問題，技術消化也需要時間。

即使擁有全套

euv技術圖紙和原理知識，並得到國家最高權力的全力支援。

想在兩、三個月內從零打造出一台可用的euv光刻機，仍然是近乎不可能完成的任務。

原因在於euv光刻機的製造不僅是技術問題，也是極端精密製造，全球頂級供應鏈整合和複雜係統工程的巔峰體現。

老愛曾經說過，邏輯隻能讓你從a到b，但想象力可以帶你到任何地方。

三個月，你就想走在世界前列，這個想象力需要帶著物理課本一起飛。

那真不如去搶算了。

其實原本張雲提出的打算是，讓國家乾脆派一支秘密部隊搶了asl，直接解決所有問題！

這家破公司可是一台euv都冇賣給咱們。

那天他還因為這件事情，和邱將軍聊了很長時間。

邱老爺子甚至差一點就要被張雲說服了。

畢竟等到末世降臨，誰還管什麼仁義道德。

不過最終方案冇有達成，龍國還是太講武德了些。

那怎麼辦呢？

張雲很快提出了b方案，高效，快捷，而且合法！

雖然是不搶了，但我們可以換呀。

張雲提出的都不簡單，心中突然一緊。

他原以為隻是引進技術專家和研發資金，最多是成立個專項課題組。

冇想到會上升到“全權接管實驗室”的地步。

這已經不是合作，更像是一場由國家主導的神密研究。

“這……陳科長。”

魏天華嚥了口唾沫，說：

“中心實驗室是我們海微的命根子，裡麵還有好幾台正在調試的28奈米光刻機樣機……”

“請問這接管的範圍是？”

陳勁剛解釋：

“協議裡寫得很清楚，從簽署這一刻起，實驗室進入最高保密狀態！”

“所有進出人員需經過雙重覈驗，通訊設備一律不準帶入。”

“內部數據隻許在物理隔離的局域網內流轉。”

“實驗室所有設備、原材料、甚至供電係統都將納入統一調度。”

“魏總放心，國家會按市場價對占用的資源進行補償。”

“項目結束後，實驗室原貌歸還，期間產生的所有技術專利，海微可共享使用權。”

這時，一直沉默的陳進一忍不住開口：

“嚴博士，您剛纔說的新型光源係統……到底是什麼技術路線？”

duv的極限陳進一可太清楚了，難道是……euv？

可他們連最基礎的高能鐳射等離子體光源都冇摸透啊？

嚴正行看向張雲，見對方微微點頭，才緩緩說道：

“比euv更先進，具體原理現在冇法多說，但可以透個底。

它的波長能穩定在135奈米以下，而且不需要像現在的euv那樣依賴極端複雜的反射鏡組。”

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